GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法（英文版）北京翻译公司|北京市翻译|北京文心雕语翻译公司

标准编号	GB/T 19922-2005
标准名称	GB/T 19922-2005 硅片局部平整度非接触式标准测试方法（英文版）
英文名称	Standard test methods for measuring site flatness on silicon wafers by noncontact scanning
发布日期	2005-09-19
实施日期	2006-04-01
全文页数	9
原版价格	10.00元
是否译文	是
译文报价	285.00元
译文格式	Word/PDF
目录简介	本标准规定了用电容位移传感法测定硅片表面局部平整度的方法。本标准适用于无接触、非破坏性地测量干燥、洁净的半导体硅片表面的局部平整度。适用于直径100mm及以上、厚度250μm及以上腐蚀、抛光及外延硅片。
关键字	GB/T 19922 English Code